High-rate reactive magnetron sputter deposition and characterization of metal oxide films /
Tallennettuna:
OCLC: | 47068374 |
---|---|
Päätekijä: | |
Yhteisötekijä: | |
Kieli: | English |
Julkaistu: |
Uppsala :
Acta Universitatis Upsaliensis,
2000.
|
Sarja: | Acta Universitatis Upsaliensis. Comprehensive summaries of Uppsala dissertations from the Faculty of Science and Technology ;
520. |
Aiheet: | |
Aineistotyyppi: | Opinnäyte Monograph Note that CRL will digitize material from the collection when copyright allows. |