High-rate reactive magnetron sputter deposition and characterization of metal oxide films /

Tallennettuna:
Bibliografiset tiedot
OCLC:47068374
Päätekijä: Olsson, Maryam Kharrazi
Yhteisötekijä: Uppsala universitet
Kieli:English
Julkaistu: Uppsala : Acta Universitatis Upsaliensis, 2000.
Sarja:Acta Universitatis Upsaliensis. Comprehensive summaries of Uppsala dissertations from the Faculty of Science and Technology ; 520.
Aiheet:
Aineistotyyppi:

Opinnäyte Monograph

Note that CRL will digitize material from the collection when copyright allows.